diffusion impurity source
英 [dɪˈfjuːʒən ɪmˈpjʊərəti sɔːs]
美 [dɪˈfjuʒən ɪmˈpjʊrəti sɔːrs]
网络 扩散杂质源
双语例句
- On the process of semiconductor manufactory, diffusion is the way which penetrate into the silicon substrate using a constant surface concentration of the impurity diffusion at the high temperature, and then re-distribution by the second Limited source surface diffusion for the purpose to doping.
在半导体平面制造工艺上，扩散主要通过在高温环境下，利用一次恒定表面浓度扩散使杂质源渗透入硅片衬底，再通过二次有限源表面再扩散、再分布，达到掺杂的目的。